真空镀碳仪 型号:je3-九游会

真空镀碳仪 型号:je3-tz-1000c
价格:电议
地区:北京市
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真空镀碳仪 型号:je3-tz-1000c真空镀碳仪 型号:je3-tz-1000c

注明:桌面型蒸镀碳层,减少因样品镀层对x射线能量谱仪做元素析时的能量损失,可以蒸发碳绳和蒸发碳棒两种方式。

技术规格说明

样品仓尺寸:φ150mmx110mm

蒸发面积:约φ140mm

高真空度:≤4×10-2mbar

工作电压:220v,50hz

蒸发输出:电压30v

蒸发靶材:碳棒、碳绳

蒸发大电流:约100a

理想膜层的特点

1.良好的导热和导电性能。

2.不管样品的表面形貌如何,覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。

3.膜层对样品的化学成干扰很小,对从样品中发射的x射线强度影响很弱。

4.这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能,相较于导电金属膜层的厚度普遍在10nm以;可提供碳的镀层,在3-4nm辨率尺度内不显示其几何形貌特点,避免引入不必要的人为图像,镀层精细均匀,适合非常粗糙的样品,高辨研究。

5.可以喷碳(碳棒或碳绳),有利于对样品中非碳元素的能谱析。

6.非导电样品观察背散射电子图像,进行ebd析,也应该喷碳处理。

主要用于扫描电镜 ed 样品镀导电膜 ,仪器操作简单方便,是配合em 制样的仪器。

真空镀碳仪 型号:je3-tz-1000c真空镀碳仪 型号:je3-tz-1000c

注明:桌面型蒸镀碳层,减少因样品镀层对x射线能量谱仪做元素析时的能量损失,可以蒸发碳绳和蒸发碳棒两种方式。

技术规格说明

样品仓尺寸:φ150mmx110mm

蒸发面积:约φ140mm

高真空度:≤4×10-2mbar

工作电压:220v,50hz

蒸发输出:电压30v

蒸发靶材:碳棒、碳绳

蒸发大电流:约100a

理想膜层的特点

1.良好的导热和导电性能。

2.不管样品的表面形貌如何,覆盖在所有部位的膜层需要薄厚均匀。

3.膜层对样品的化学成干扰很小,对从样品中发射的x射线强度影响很弱。

4.这层膜主要增加样品表面的导电性能和导热性能,相较于导电金属膜层的厚度普遍在10nm以;可提供碳的镀层,在3-4nm辨率尺度内不显示其几何形貌特点,避免引入不必要的人为图像,镀层精细均匀,适合非常粗糙的样品,高辨研究。

5.可以喷碳(碳棒或碳绳),有利于对样品中非碳元素的能谱析。

6.非导电样品观察背散射电子图像,进行ebd析,也应该喷碳处理。


主要用于扫描电镜 ed 样品镀导电膜 ,仪器操作简单方便,是配合em 制样的仪器。


是否全新:

全新

样品仓尺寸:

φ150mmx110mm

蒸发面积:

约φ140mm

高真空度:

≤4×10-2mbar

工作电压:

220v50hz

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